荷蘭政府上周五（6月30日）正式宣布將進一步限制出口製造先進晶片所需的半導體設備，要求未來阿斯麥（ASML）出口DUV深紫外光微影設備到中國內地，須事先申請許可，新規定自9月1日生效。中國商務部對此表示堅決反對。
彭博資訊解讀，荷蘭當局新的出口管制，將迫使阿斯麥對中國出口部分DUV深紫外光微影設備時，須事先申請許可，目的是把阿斯麥旗下三款DUV機台納入管制範圍。限制禁令從原先專攻先進製程的極紫外光（EUV）系統，延伸到主攻成熟製程的部分深紫外光（DUV）設備。
荷蘭外貿部長施萊納馬赫表示，此舉是基於國安考量。
中國商務部前日回應表示，近月中荷雙方就半導體出口管制問題開展多層級、多頻次溝通磋商，但荷方最終仍將相關半導體設備列管，中方表示不滿。發言人批評，近年美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，濫用出口管制措施，甚至不惜犧牲盟友利益，脅迫拉攏其他國家對中國實施半導體打壓圍堵，人為推動產業脫鈎斷鏈，嚴重損害全球半導體產業發展，中方堅決反對。
發言人指，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。
晶片製造關鍵設備光刻機對中國的出口未來將需要獲得荷蘭政府許可。（美聯社圖片）
下載APP